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半导体行业光刻机中的阀门应用
万物互联的智能世界得益于通信技术的发展,而通信技术的发展源于半导体技术的不断革新。共筑便利、互联的世界是科创型企业的愿景,更是大众对生活的追求。在这个能源转型、智能设备普及、电动汽车发展日新月异的时代,我们对芯片等半导体产品的需求也日益增加。在半导体制造行业中,阀门、测量及控制系统拥有着广泛的应用,例如超纯硅生产和晶片生产、湿法涂层工艺、超纯水处理厂的化学品清洗流程、化学品供应及湿法制程。
光刻机,作为半导体生产制造的核心设备,也是决定半导体生产工艺水准的绝对主导,目前已经发展至第五代EUV(极紫外光刻Extreme Ultraviolet Lithography)技术。
▲EUV光掩膜清洗系统设计示意图
盖米也与一家技术领先的设备工程公司展开合作,打造了EUV光掩膜清洗系统。EUV光掩膜盒在清洗时,通过升高系统内部温度加快清洗过程。而此时,控制设备电源的温度及热去离子水的供给和混合已然成为了技术难点。上图展示了盖米与合作伙伴的研发成果,通过2套带有步进电机执行机构的盖米阀门GEMÜ C53电动控制阀与PLC及温度传感器紧密合作,实现了温水流量的精准控制,进而能够清洁高度敏感且昂贵的EUV光掩膜传输盒。
▲盖米GEMÜ C53电动控制阀
设计特点
通过两个执行机构并行控制,可以快速达到所需混合比,并在波动情况下保持供应线的稳定;
保障设备中的热去离子水温度维持在70至90°C之间;
凭借阀块结构,可使混合介质维持在特定温度;
集成的止回阀可防止去离子水回流,并防止两条供应线混淆。
集成的解决方案将日渐普及,并带来了诸多优点,如资源节约型材料的选用、更完善的功能、较长的使用寿命以及长期的成本效益。因此,最终用户、微芯片、MEMS、LED、触摸面板和平板屏幕制造商都将倾向、并受益于业内合作所打造的集成解决方案。